特許
J-GLOBAL ID:200903025131744143

エネルギー分散型全反射面内薄膜X線回折法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-274835
公開番号(公開出願番号):特開平5-087747
出願日: 1991年09月25日
公開日(公表日): 1993年04月06日
要約:
【要約】【目的】 本発明は薄膜のX線結晶構造解析法で、薄膜と基板の境界での全反射効果によつて基板からの散乱X線を極力おさえS/N比の改善によつて超薄膜の面内構造評価を可能にした。光学系が固定されたエネルギー分散型X線回折計で真空装置等への組み込みが可能である。【構成】装置の主要部分は図2に示されている。白色X線源、全反射角設定スリットと入射角設定ソーラスリットで構成される三軸スリットシステム、基板回転機構、固体X線検出器 が主な構成である。
請求項(抜粋):
次の各段階からなるエネルギ-分散型全反射面内薄膜X線回折法。(a)被測定薄膜が基板上に形成されている試料を準備する段階。(b)前期薄膜に白色X線を基板面に低角に入射して、薄膜と基板との境界面でX線を全反射させる段階。(c)前記試料表面に対して散乱面(入射、回折、および散乱の各ベクトルを含む面)が平行位置にあり、かつ、試料との相対位置関係が固定されている固体X線検出器で、前記試料からの回折X線を測定する段階。(d)前記固体X線検出器からの出力信号をエネルギ-分析して、各エネルギ-におけるX線強度デ-タから結晶構造を求める段階。

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