特許
J-GLOBAL ID：200903025145638591
高および/または低屈折率ポリマーのためのプラズマ強化化学的堆積
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
社本 一夫 (外5名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-587903
公開番号（公開出願番号）：特表2002-532621
出願日： 1999年12月15日
公開日（公表日）： 2002年10月02日
要約：
【要約】選択された屈折率を有するポリマー層を作成するための本発明の方法は、下記工程を有する:(a)モノマー材料を、エバポレートを形成するエバポレート出口にてフラッシュ蒸発させ;(b)前記エバポレートを、前記エバポレートからグロー放電モノマープラズマを造り出すグロー放電電極に通し;そして(d)前記グロー放電モノマープラズマを基体に低温凝縮させ、前記グロー放電モノマープラズマをその上に架橋させる;ここで、前記架橋は、前記グロー放電モノマープラズマに造り出されたラジカルから起こり、自己硬化を達成する。
請求項（抜粋）：
下記工程を含む、真空環境で基体にプラズマ強化化学蒸着させることを用いる、選択された屈折率を有するポリマー層を作る方法: (a)架橋性モノマーを該選択された屈折率を有するポリマーに与え; (b)フラッシュ蒸発ハウジングに受けることによりエバポレートを作り、該モノマーを蒸発表面に蒸発させ、エバポレート出口を通してエバポレートを排出し; (c)グロー放電電極に隣接した該エバポレートを通すことにより該エバポレートからモノマープラズマを作り、前記エバポレートから該プラズマを作るためにグロー放電を造り出し;そして (d)該モノマープラズマを該基体に凝縮および架橋させ、該選択された屈折率を有する該ポリマー層を形成する。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (27件)：
4J031BA04
, 4J031BA05
, 4J031BA09
, 4J031BA17
, 4J031BB01
, 4J031BB05
, 4J031BC07
, 4J031BC20
, 4J031BD21
, 4J031CE04
, 4J031CE06
, 4J031CF07
, 4J031CG04
, 4J031CG33
, 4J031CG39
, 4J031CG40
, 4J031CG43
, 4K030AA02
, 4K030AA09
, 4K030AA14
, 4K030BA61
, 4K030EA01
, 4K030FA03
, 4K030GA14
, 4K030KA16
, 4K030KA26
, 4K030LA01
