特許

J-GLOBAL ID：200903025147845829

分割露光装置

発明者： 三宅 栄一
出願人/特許権者： サンエー技研株式会社
代理人 (1件)： 深見 久郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-266617
公開番号（公開出願番号）：特開平11-109643
出願日： 1997年09月30日
公開日（公表日）： 1999年04月23日
要約：

【要約】【課題】 露光ステーションを複数設け、分割露光において高精度に露光処理を行なうことのできる分割露光装置を提供する。【解決手段】 搬入ステーション10、第1表面側露光ステーション20A、第2表面側露光ステーション20B、反転ステーション30、第1裏面側露光ステーション20C、第2裏面側露光ステーション20D、搬出ステーション40とを備え、第1表面側露光ステーション20Aにより、基板1の表面の1/2の領域A1が、第2表面側露光ステーション20Bにおいて、表面の残りの1/2の部分A2が露光される。さらに、反転ステーション30において基板1が反転させられ、第1裏面用露光ステーション20Cにおいて、基板1の1/2の領域A3が、第2裏面側露光ステーション20Dにおいて、基板1の裏面の残りの1/2の領域A4が露光される。

請求項（抜粋）：

光線を照射するための光線照射手段と、感光材が表裏面に塗布またはラミネートされ、複数の露光領域に分割される基板と、前記基板に接触または近接して配置され、露光パターンが描かれたフォトマスクを通して、前記光線を前記基板に照射することによって、前記露光パターンを前記基板の分割された露光領域に転写する露光を行なうための露光手段と、前記フォトマスクに付されたフォトマスクの位置合わせマークと、前記基板に付された基板の位置合わせマークとを整合させる位置合わせ手段と、前記フォトマスクと前記基板とを接触または近接させる相対位置を制御する位置制御手段と、を含む露光ステーションを有する、分割露光装置であって、前記露光ステーションは、前記基板の表面側を露光するための表面側露光ステーションと、前記基板の裏面側を露光するための裏面側露光ステーションとを前記基板の露光行程に沿う方向にそれぞれ複数配置したことを特徴とする、分割露光装置。

IPC (3件)：

G03F 7/20 ,  G03F 9/00 ,  H05K 3/00

FI (3件)：

G03F 7/20 ,  G03F 9/00 Z ,  H05K 3/00 H