特許
J-GLOBAL ID:200903025172680800

高圧ガス処理の構成及び方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 川口 義雄 ,  小野 誠 ,  大崎 勝真 ,  坪倉 道明
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-555241
公開番号(公開出願番号):特表2006-507389
出願日: 2002年11月25日
公開日(公表日): 2006年03月02日
要約:
本発明のプラントは圧入ガス圧縮機(107)からの圧縮ガスを受容する酸性ガス除去ユニット(102)を含み、この酸性ガス除去ユニット(102)において酸性ガスはほぼパイプライン圧力またはパイプライン圧力を超える圧力で圧縮ガスから除去される。
請求項(抜粋):
販売ガス及び酸性ガスを含む脱水/C5+枯渇ガスの一部を圧入ガス圧縮機からパイプライン圧力を超える圧力で受容し、酸性ガスを物理的溶媒または化学的溶媒により除去する酸性ガス除去ユニットを含むプラント。
IPC (2件):
C10L 3/10 ,  B01D 53/14
FI (2件):
C10L3/00 B ,  B01D53/14 102
Fターム (5件):
4D020AA06 ,  4D020BA16 ,  4D020BA19 ,  4D020BA21 ,  4D020BB04

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