特許
J-GLOBAL ID：200903025175217396
弾性表面波素子製造用フォトマスク及び電極パターン
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-290306
公開番号（公開出願番号）：特開平9-107259
出願日： 1995年10月12日
公開日（公表日）： 1997年04月22日
要約：
【要約】【課題】本発明は弾性表面波素子の製造にフォトリソグラフィーにて使用するフォトマスクが有する欠点を除去する為になされたものであって、弾性表面波素子のIDT電極指部の共通バスバー部との連結部分近傍の幅が、細くなる、或いは分離することのない弾性表面波素子製造用フォトマスク、及びそのIDT電極パターンを提供することを目的とする。【解決手段】弾性表面波素子の電極パターンをフォトリソグラフィー技術にて形成するためのフォトマスクにおいて、該フォトマスクのインタディジタルトランスジューサ部分の電極指の少なくともバスバーへの連結部近傍部分の幅を、該電極指の他の部分の幅より太くすることによって、そのフォトマスクにより製造した弾性表面波素子の挿入損失の増大や、伝送の阻止が発生することない弾性表面波素子製造用フォトマスク及び電極パターンである。
請求項（抜粋）：
弾性表面波素子の電極パターンをフォトリソグラフィー技術にて形成するためのフォトマスクにおいて、該フォトマスクのインタディジタルトランスジューサ部分の電極指の少なくともバスバーへの連結部近傍部分の幅を、該電極指の他の部分の幅より太くしたことを特徴とする弾性表面波素子製造用フォトマスク。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H03H 3/08
, H03H 9/145 Z
, H03H 9/145 D
