特許

J-GLOBAL ID：200903025177332524

高濃度有機性排水処理装置

発明者： 中山 文雄
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 石原 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-154737
公開番号（公開出願番号）：特開平7-008979
出願日： 1993年06月25日
公開日（公表日）： 1995年01月13日
要約：

【要約】【目的】 レストランや食品加工工場等から排出される高濃度の有機性排水を安定して処理でき、且つ、管理が容易な高濃度有機性排水処理装置を提供する。【構成】 原排水の流入部に配され、原排水から粗大固形物を分離する固液分離手段2と、前記粗大固形物を分離された排水を槽内に滞溜させると共に、滞溜している排水を間欠的に曝気処理してそのpHの低下を防止する間欠曝気処理手段4、5、6を有する間欠曝気槽3と、前記間欠曝気槽3から流入してくる処理水を、槽内に滞溜させると共に、滞溜している処理水を酸化分解処理する好気槽8と、前記好気槽8から流出してくる処理水を、一旦、滞溜させてから放流する放流槽12とを有することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

原排水の流入部に配され、原排水から粗大固形物を分離する固液分離手段と、前記粗大固形物を分離された排水を槽内に滞溜させると共に、滞溜している排水を間欠的に曝気処理してそのpHの低下を防止する間欠曝気処理手段を有する間欠曝気槽と、前記間欠曝気槽から流入してくる処理水を槽内に滞溜させると共に、滞溜している処理水を酸化分解処理する好気槽と、前記好気槽から流出してくる処理水を、一旦、滞溜させてから放流する放流槽とを有することを特徴とする高濃度有機性排水処理装置。

IPC (4件)：

C02F 3/00 ZAB ,  C02F 3/30 ,  C02F 3/34 ,  C02F 3/34 101