露光用マスクとその製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-284675
公開番号（公開出願番号）：特開2000-112115
出願日： 1998年10月07日
公開日（公表日）： 2000年04月21日
要約：

【要約】【課題】本発明の課題は、簡便に露光用マスクを作製することのできる露光用マスクとその製造方法を提供することにある。【解決手段】透明基板上に遮光膜を設けてなる、回路パターンを形成するための露光用マスクにおいて、未露光部のハロゲン化銀に由来する金属銀が該透明基板上で触媒核となり、該遮光膜が該触媒核上に生成する金属膜であることを特徴とする露光用マスク。更に、光未照射部分のハロゲン化銀を溶解し、現像時に金属銀を形成し、該金属銀が透明基板上に吸着した後、感光層を除去した後、吸着した金属銀を触媒核として、金属膜を形成したことを特徴とする露光用マスクの製造方法。

請求項（抜粋）：

透明基板上に遮光膜を設けてなる、回路パターンを形成するための露光用マスクにおいて、未露光部のハロゲン化銀に由来する金属銀が透明基板上で触媒核となり、該遮光膜が該触媒核上に生成する金属膜であることを特徴とする露光用マスク。

IPC (3件)：

G03F 1/08 , G03C 5/00 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 1/08 J , G03C 5/00 B , H01L 21/30 502 P

Fターム (5件)：

2H016AA01 , 2H016AD03 , 2H016AG01 , 2H095BC06 , 2H095BC08

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