特許

J-GLOBAL ID：200903025183215270

レジスト・パターンを現像するための装置及び方法

発明者： ネイル・エフ・ハリー ,  ウィリアム・ジー・ドルマン
出願人/特許権者： コダック ポリクロム グラフィックス カンパニーリミテッド ,  テクニグラフ・プロダクツ・リミテッド
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外7名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-532154
公開番号（公開出願番号）：特表2003-512648
出願日： 2000年10月03日
公開日（公表日）： 2003年04月02日
要約：

【要約】化学現像部と、該化学現像部の上流側の予熱炉とを備え、基板上に撮像されたレジスト・パターンを処理するための一体型装置、とりわけ、感熱式の平版印刷版。上記予熱炉は、装置の中を通ってプレートが進行する際に、撮像された平版印刷版(あるいは基板上に撮像された他のレジスト・パターン)を概ね均一に加熱するように制御可能とされている。もし必要であれば、プレート・ベーキング炉を化学現像部の下流に設けることができる。

請求項（抜粋）：

通路を決める出口と入口とを有してこの通路に沿って撮像された基板が進行する予熱炉と、該予熱炉の下流にあって前記撮像された基板の化学現像を行なう化学現像部とを備え、基板上に撮像されたレジスト・パターンを現像処理するための一体型装置において、 前記予熱炉は、前記予熱炉の中を通って前記基板が進行する際に、前記撮像された基板を均等に熱するように、前記撮像された基板に供給される熱の量をアクティブに制御できるように構成されていることを特徴とする一体型装置。

IPC (3件)：

G03F 7/30 501 ,  B41N 1/14 ,  G03F 7/00 503

FI (3件)：

G03F 7/30 501 ,  B41N 1/14 ,  G03F 7/00 503

Fターム (15件)：

2H096AA06 ,  2H096BA01 ,  2H096EA04 ,  2H096GA24 ,  2H096GA60 ,  2H096JA03 ,  2H114AA04 ,  2H114AA22 ,  2H114AA24 ,  2H114BA01 ,  2H114BA10 ,  2H114EA01 ,  2H114EA02 ,  2H114GA26 ,  2H114GA38