特許

J-GLOBAL ID：200903025194791478

リソグラフイー用ペリクル

発明者： 久保田 芳宏 ,  樫田 周 ,  永田 愛彦 ,  野口 仁 ,  浜田 裕一 ,  佐藤 伸一 ,  猪俣 博
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 山本 亮一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-295124
公開番号（公開出願番号）：特開平5-107746
出願日： 1991年10月15日
公開日（公表日）： 1993年04月30日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 本発明はLSI、超LSIなどの半導体装置、液晶表示板製造時のゴミよけ用に500nm以下の露光方式で使用される、接着強度が大きく、光劣化しないリソグラフィー用ペリクルの提供を目的とするものである。【構成】 本発明のリソグラフィー用ペリクルは、ペリクル膜がフルオロカーボンシロキサン組成物でペリクル枠に接着された重合体よりなるものであることを特徴とするものである。

請求項（抜粋）：

ペリクル膜がフルオロカーボンシロキサン組成物でペリクル枠に接着された重合体よりなるものであることを特徴とするリソグラフィー用ペリクル。

IPC (8件)：

G03F 1/14 ,  C08G 77/50 NUM ,  C08J 5/12 ,  C08L 83/05 LRM ,  C08L 83/14 LRZ ,  C09J183/14 JGH ,  G03F 7/075 511 ,  H01L 21/027