特許

J-GLOBAL ID：200903025210911314

反射マスクおよびX線投影露光装置

発明者： 押野 哲也
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 細江 利昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-245523
公開番号（公開出願番号）：特開2000-077305
出願日： 1998年08月31日
公開日（公表日）： 2000年03月14日
要約：

【要約】【課題】 反射型であっても、高精度なアライメントができる反射マスク、及びこれらを用いたX線投影露光装置を提供する。【解決手段】 多層膜2の表面には、吸収体3がパターン状に形成されている。ここにX線が入射すると、多層膜2が露出する部分に入射したX線は反射し、吸収体3に入射したX線は反射しない。アライメントマークはアライメント光の反射部4と非反射部2aからなる。反射部4はアライメント光が反射しやすい材料で構成することが好ましい。非反射部2aはアライメント光を反射しにくいようにする必要があるが、下地の材料は多層膜2の構成材料で決まってしまう。そこで、その表面粗さを大きくして、入射光を散乱させることで反射率を低減する。これにより、反射部4と非反射部2aのコントラストの大きなアライメントマークが得られる。

請求項（抜粋）：

少なくとも多層膜を用いた反射マスクであって、投影転写する回路パターンとアライメントマークを有し、アライメントマークは、アライメント光を反射する反射部と反射しにくい非反射部で構成され、非反射部の表面粗さが反射部の表面粗さよりも大きいことを特徴とする反射マスク。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16

FI (3件)：

H01L 21/30 531 M ,  G03F 1/16 A ,  H01L 21/30 531 A

Fターム (7件)：

2H095BA01 ,  2H095BA10 ,  2H095BC11 ,  2H095BE03 ,  5F046GA18 ,  5F046GD02 ,  5F046GD09