特許
J-GLOBAL ID：200903025212702577
積層インダクタ素子とその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
窪田 法明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-022802
公開番号（公開出願番号）：特開平6-096953
出願日： 1991年01月22日
公開日（公表日）： 1994年04月08日
要約：
【要約】【目的】 磁界の影響によってL値が変化しない、安定した電磁気的特性を有する積層インダクタ素子を提供する。【構成】 磁性体シートを積層焼成してなる磁性体と、この磁性体内に連続的に接続形成された導電体とからなる積層インダクタ素子において、前記磁性体と前記導電体との間に応力緩和材を介在させる。磁性体と導電体との間で応力が作用しなくなる。
請求項（抜粋）：
磁性体シートを積層焼成してなる磁性体と、この磁性体内に連続的に接続形成された導電体とからなる積層インダクタ素子において、前記磁性体と前記導電体との間に応力緩和材を介在させてなる積層インダクタ素子。
IPC (2件)：
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