特許
J-GLOBAL ID：200903025221901990
ホトマスクおよびそれを用いたパタン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-326433
公開番号（公開出願番号）：特開平6-175347
出願日： 1992年12月07日
公開日（公表日）： 1994年06月24日
要約：
【要約】【目的】 半透明位相シフトマスクにおいて、素子領域より外周に実効的な暗部を、遮光膜を使わずに形成する。【構成】 半透明位相シフト部3と透過部5を最適な寸法組合せで構成することにより、実効的な暗部を形成する。【効果】 半透明膜のみのパタンで実効的な暗部を形成することができ、マスク作成工程を増やすこと無く、実用上有用な半透明位相シフトマスクを作成することができる。
請求項（抜粋）：
露光光に対して半透明な領域と、透明な領域を含み、上記透明な領域を通過する光に対し、半透明な領域を通過する光の位相差がおよそ180°となるようにした半透明位相シフト領域を含むホトマスク内に、半透明位相シフトパタンと透明パタンを投影露光光学系の解像限界以下の繰返しピッチで配列したパタンを有する事を特徴とするホトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 301 P
, H01L 21/30 311 W
