特許
J-GLOBAL ID:200903025225959577

レーザ加工装置用出射光学系

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 後藤 洋介 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-211091
公開番号(公開出願番号):特開2001-038484
出願日: 1999年07月26日
公開日(公表日): 2001年02月13日
要約:
【要約】【課題】 簡易な構成で、小型軽量のオシレーション機構を備えた出射光学系を提供する。【解決手段】 リコリメートレンズ12と加工レンズ14との間に、全反射ミラー15及び回転ミラー16を設ける。回転ミラーはミラーホルダー17によって保持され、ミラーホルダーは、回転軸18により回転可能に支持されている。また、ミラーホルダーには、回転軸に関して対称な位置に振動子19とばね20とが設けられている。振動子とばねにより回転ミラーを微小揺動回転させると、加工レンズに入射するレーザ光の入射角が周期的に変化し、加工対象物13上のレーザ光スポットが一軸方向に往復運動する。
請求項(抜粋):
レーザ発振器からのレーザ光を集光して加工対象物に照射するレーザ加工装置用出射光学系において、前記レーザ光を平行光に変換するリコリメートレンズと、前記平行光の光軸に対して垂直な回転軸によって回転可能に支持され、前記平行光を反射する回転ミラーと、前記回転軸を回転の中心として前記回転ミラーを揺動回転させるために、当該回転ミラーの前記回転軸から離れた位置に回転力を与える駆動源と、前記回転ミラーで反射された前記平行光を集光して前記加工対象物に照射する加工レンズと、を備えたことを特徴とするレーザ加工装置用出射光学系。
IPC (4件):
B23K 26/06 ,  B23K 26/08 ,  G02B 13/00 ,  G02B 26/08
FI (4件):
B23K 26/06 A ,  B23K 26/08 B ,  G02B 13/00 ,  G02B 26/08 E
Fターム (14件):
2H041AA12 ,  2H041AB14 ,  2H041AC04 ,  2H041AZ01 ,  2H041AZ05 ,  2H087KA26 ,  2H087LA25 ,  2H087RA45 ,  2H087TA01 ,  2H087TA04 ,  2H087TA08 ,  4E068CB05 ,  4E068CD12 ,  4E068CE03

前のページに戻る