特許

J-GLOBAL ID：200903025238321300

シリコーンゴム成形品中に残留するジメチルシロキサンオリゴマーの除去方法

発明者： 松川 公洋 ,  松浦 幸仁 ,  井上 弘 ,  石垣 美積 ,  飛田 徹也
出願人/特許権者： 松川 公洋 ,  松浦 幸仁 ,  井上 弘 ,  石垣ゴム工業株式会社
代理人 (2件)： 森 治 ,  林 清明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-205807
公開番号（公開出願番号）：特開2004-043726
出願日： 2002年07月15日
公開日（公表日）： 2004年02月12日
要約：

【課題】シリコーンゴム成形品中に残留するジメチルシロキサンオリゴマーを、有害な溶剤等を使用することなく、効率よく除去することができる、シリコーンゴム成形品中に残留するジメチルシロキサンオリゴマーの除去方法を提供すること。【解決手段】シリコーンゴム成形品中に残留するジメチルシロキサンオリゴマーを、超臨界流体によって抽出することにより、ジメチルシロキサンオリゴマーの残留量を低減する。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

シリコーンゴム成形品中に残留するジメチルシロキサンオリゴマーを、超臨界流体によって抽出することにより、前記ジメチルシロキサンオリゴマーの残留量を低減することを特徴とするシリコーンゴム成形品中に残留するジメチルシロキサンオリゴマーの除去方法。

IPC (1件)：

C08J7/02

FI (1件)：

C08J7/02 A

Fターム (8件)：

4F073AA23 ,  4F073BA33 ,  4F073EA03 ,  4F073EA15 ,  4F073EA20 ,  4F073EA21 ,  4F073EA25 ,  4F073EA64

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平3-202102
  
• 特開平3-202102