特許

J-GLOBAL ID：200903025247467120

光走査装置

発明者： 赤津 和宏
出願人/特許権者： 日立工機株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-185541
公開番号（公開出願番号）：特開平9-033836
出願日： 1995年07月21日
公開日（公表日）： 1997年02月07日
要約：

【要約】【課題】光入射光学系のビーム幅の比率を変えることで、走査するビームスポットの走査方向と副走査方向の大きさの比率を変え、結果的に印刷する線幅の走査方向と副走査方向の太さの比率を変える。【解決手段】レーザ等の光源1と、コリメータレンズ2と、シリンダレンズ3からなる回転多面鏡4への光入射光学系と、回転多面鏡4、Fθ1レンズ5、Fθ2レンズ6、感光体8からなる走査光学系からなり、光入射光学系の中に変形可能な、ビーム整形手段をいれるか、光の拡がりが楕円の半導体レーザ等の光源1を光軸を中心として回転させられる。

請求項（抜粋）：

レーザ等の光源と、そこから発生する光をコリメートするコリメータレンズと、そこから出た光を副走査方向にのみ絞り回転多面鏡上に結像するように配置したシリンダレンズと、その光を偏向走査する回転多面鏡と、その偏向された光を、感光体上の所定の位置に結像させるFθレンズからなる光走査装置において、光源と回転多面鏡の間に調整可能なビーム整形素子を設けたことを特徴とする光走査装置。