特許

J-GLOBAL ID：200903025255769721

静電吸着装置,ウエハ脱離方法、及びウエハ処理装置

発明者： 菅野 誠一郎 ,  橘内 浩之
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-081215
公開番号（公開出願番号）：特開平9-275132
出願日： 1996年04月03日
公開日（公表日）： 1997年10月21日
要約：

【要約】【課題】ウエハ処理終了後に発生する残留吸着力を効果的に低減できる静電吸着装置を提供する。【解決手段】ウエハ9の裏面の誘電膜21内部または周辺に、圧電体40または形状記憶体44を設置し、処理終了後に外部の信号により誘電体21の表面よりも突出させてウエハ9と誘電膜21間の空隙を増加させる。または、ウエハ9の受け渡すように設けたプッシャ27の少なくとも1個の先端に圧電体52または形状記憶体を取り付け、処理終了後他のプッシャ27に先行してウエハ9に押し当てて剥がす。

請求項（抜粋）：

導電性材料からなる電極と、前記電極の表面に積層させた表面の平坦な誘電膜を有し、前記誘電膜とウエハの間に電界を発生させ、静電気力によりウエハを吸着固定する静電吸着装置において、前記ウエハ裏面であって前記誘電膜内部または周辺には、前記ウエハとの間の空隙を増加させる手段を備え、処理終了後のウエハの脱離の際には前記誘電膜とウエハの間の空隙を増加させて静電容量を減少させることにより除電を行うことを特徴とする静電吸着装置。

IPC (4件)：

H01L 21/68 ,  B23Q 3/15 ,  H01L 21/3065 ,  H02N 13/00

FI (4件)：

H01L 21/68 R ,  B23Q 3/15 D ,  H02N 13/00 D ,  H01L 21/302 B