特許
J-GLOBAL ID:200903025264804017
超純水の製造方法およびその装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
深見 久郎 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-282703
公開番号(公開出願番号):特開平6-134488
出願日: 1992年10月21日
公開日(公表日): 1994年05月17日
要約:
【要約】【目的】 低沸点有機物が残留しないように改良された超純水製造装置を得ること。【構成】 当該装置は、被処理水を収容し、かつ該被処理水を気化させるための容器2を備える。容器2には、該容器内に被処理水を供給するための被処理水供給手段1が取付けられる。容器2内の被処理水は、加熱手段3によって加熱される。容器2の中から気化してきた水蒸気は、冷却手段4により冷却される。冷却手段4から出てきた蒸留水には、紫外線照射手段6によって紫外線が照射される。紫外線が照射された蒸留水中に含まれる有機分解物は、有機分解物除去手段8によって除去され、超純水が得られる。
請求項(抜粋):
被処理水を準備する工程と、前記被処理水を蒸留し、それによって該被処理水の蒸留水を得る工程と、前記蒸留水に紫外線を照射し、それによって該蒸留水中に含まれる有機不純物を酸化分解する工程と、紫外線を照射した前記蒸留水中に含まれる有機分解物を除去し、それによって超純水を得る工程と、を備えた、超純水の製造方法。
IPC (8件):
C02F 9/00
, C02F 1/02
, C02F 1/04
, C02F 1/32
, C02F 1/42
, C02F 1/72 101
, C02F 1/74 101
, C02F 1/78
引用特許:
審査官引用 (2件)
-
特開昭52-075664
-
特開昭51-115060
前のページに戻る