特許
J-GLOBAL ID：200903025277140649
ブランクス又はブラックマトリクス及びこれらの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
北村 欣一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-104918
公開番号（公開出願番号）：特開平10-301499
出願日： 1997年04月22日
公開日（公表日）： 1998年11月13日
要約：
【要約】【課題】環境への影響が小さく、耐化学薬品性、耐熱性を有すると共に従来のCrウエットエッチング溶液によるパターン作製が可能で生産性に優れ、高い遮光性、優れた低反射性を有するブラックマトリクスおよびその製造方法を提供すること【解決手段】透明基板の表面上に直接若しくは間接に付着させて形成した遮光膜又は遮光膜と反射防止膜からなるブラックマトリクスに於いて、該遮光膜又は反射防止膜をMoとNiを金属成分の主成分とする薄膜とした。該透明基板を真空室内に設け、MoとNiを金属成分の主成分とするスパッタターゲットを使用し、雰囲気ガスにArガス若しくはArガスにO2、N2、NO、CO2、CH4のうちの少なくとも1つの反応ガスを添加した混合ガスを用いてスパッタリング法により該遮光膜を形成する。
請求項（抜粋）：
透明基板の表面上に直接若しくは間接に付着させて形成した遮光膜又は遮光膜と反射防止膜からなるブランクス又はブラックマトリクスに於いて、該遮光膜又は反射防止膜をMoとNiを金属成分の主成分とする薄膜としたことを特徴するブランクス又はブラックマトリクス。
IPC (2件)：
G09F 9/00 326
, G02F 1/1335 500
G09F 9/00 326 B
, G02F 1/1335 500
