特許
J-GLOBAL ID：200903025277334036
イオン注入装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
原 謙三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-018800
公開番号（公開出願番号）：特開平5-217543
出願日： 1992年02月04日
公開日（公表日）： 1993年08月27日
要約：
【要約】【構成】 イオンビームおよびエレクトロンシャワー27の密度分布を検出可能なビーム電流測定子11と、イオン照射対象物26の注入面Cとビーム電流測定子11の測定面Dとの中間位置にエレクトロンシャワー27を集合させた焦点Eを結ばせる静電レンズ21と、ビーム電流測定子11より得られた密度分布を基にして電流密度を所定値以下に設定するビームプロファイルモニター12とを有している。【効果】 イオン照射対象物26の注入面Cにおける照射状態をビーム電流測定子11によって把握することができるため、エレクトロンシャワー27の密度分布の変更により、エレクトロンシャワー27とイオンビームとの密度分布を一致させて電流密度を所定値以下に抑制できる。よって、エレクトロンシャワー27のディスク位置を基にしたシャワー量の制御が不要になる。
請求項（抜粋）：
イオンビームが照射されるイオン照射対象物をエレクトロンシャワーによって中性化するイオン注入装置において、イオンビームおよびエレクトロンシャワーの密度分布を検出可能な密度分布検出手段と、イオン照射対象物の注入面と密度分布検出手段の測定面との中間位置にエレクトロンシャワーを集合させた焦点を結ばせる静電レンズと、上記密度分布検出手段によって得られたイオンビームおよびエレクトロンシャワーの密度分布を基にして電流密度を所定値以下に設定する制御手段とを有していることを特徴とするイオン注入装置。
IPC (4件)：
H01J 37/317
, C23C 14/48
, C23C 14/54
, H01L 21/265
