特許
J-GLOBAL ID：200903025298984391
アライメント方法及び露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-034108
公開番号（公開出願番号）：特開平5-206008
出願日： 1992年01月24日
公開日（公表日）： 1993年08月13日
要約：
【要約】【目的】 アライメントマーク又は基準マークとして製造誤差が容易に計測できるマークを用いたアライメントを行う。【構成】 レチクルのアライメントマークを計測方向に平行な等ピッチの直線パターン13〜15より構成し、ウェハステージ側の基準マークを折線状に配置された直線パターン群16〜19及び直線状の補助パターン20A,21A,20B,21Bより構成する。直線パターン13を用いて粗い位置合わせを行った後に、モアレ縞により最終的な位置合わせを行う。
請求項（抜粋）：
フォトマスクのパターンをステージ上の被露光基板に転写する際に、前記ステージ上に設けた基準マークと前記フォトマスク上のアライメントマークとの位置関係より前記ステージに対する前記フォトマスクの位置合わせを行うアライメント方法において、前記フォトマスクのアライメントマーク又は前記ステージ上の基準マークの内の一方のマークを1本又は複数本のそれぞれ直線状のパターンから形成し、前記フォトマスクのアライメントマーク又は前記ステージ上の基準マークの内の他方のマークを前記一方のマークの投影像に対してなす角度がそれぞれ45°以下の線分よりなる1本又は複数本の折線状のパターンから形成し、前記直線状のパターンを用いて粗い位置合わせを行った後に、前記直線状のパターンと折線状のパターンとの位置関係より最終的な位置合わせを行う事を特徴とするアライメント方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 311 M
, H01L 21/30 301 M
