特許

J-GLOBAL ID：200903025301427768

スキャン型露光装置およびスキャン式露光方法

発明者： 黒川 健市
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 宮越 典明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-051074
公開番号（公開出願番号）：特開2001-244172
出願日： 2000年02月28日
公開日（公表日）： 2001年09月07日
要約：

【要約】【課題】 被処理物に転写されるパターン情報の線幅均一性を高精度で安定させることができるスキャン型露光装置およびスキャン式露光方法を提供する。【解決手段】 露光部12と、レチクルスキャンステージ3と、被処理物スキャンステージ8とを有するスキャン型露光装置100において、レチクル位置検出ユニット4と、被処理物位置検出ユニット9とが設けられ、レチクルスキャンステージ3および被処理物スキャンステージ8の位置情報を基に露光量を制御する露光量コントロールユニット11が露光部12に接続されたことを特徴とする。また、レチクルスキャンステージ3の上のレチクル1を介して、被処理物スキャンステージ8の上の被処理物6にスキャン露光するスキャン式露光方法において、レチクルスキャンステージ3と被処理物スキャンステージ8の位置情報を取り出し、レチクルスキャンステージ3と被処理物スキャンステージ8の位置情報とを基に露光量を制御することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

露光部と、レチクルを保持してレチクルスキャン動作をするレチクルスキャンステージと、被処理物を保持して被処理物スキャン動作をする被処理物スキャンステージとを有するスキャン型露光装置において、前記レチクルスキャンステージの位置情報を検出するレチクル位置検出ユニットと、前記被処理物スキャンステージの位置情報を検出する被処理物位置検出ユニットとが設けられ、前記レチクルスキャンステージの位置情報と前記被処理物スキャンステージの位置情報とを基に露光量を制御する露光量コントロールユニットが前記露光部に接続されたことを特徴とするスキャン型露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/23

FI (3件)：

G03F 7/23 H ,  H01L 21/30 516 D ,  H01L 21/30 518

Fターム (4件)：

5F046BA05 ,  5F046DA02 ,  5F046DA08 ,  5F046DD06