特許
J-GLOBAL ID:200903025302686635
光学素子、光学素子の製造方法、光学素子の位相欠陥修正装置及び光学素子の位相欠陥修正方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (7件):
鈴江 武彦
, 村松 貞男
, 坪井 淳
, 橋本 良郎
, 河野 哲
, 中村 誠
, 河井 将次
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-338039
公開番号(公開出願番号):特開2004-170786
出願日: 2002年11月21日
公開日(公表日): 2004年06月17日
要約:
【課題】従来不可能であった位相が不足するくぼみ欠陥を修正することができる光学素子の位相欠陥修正装置を提供する。【解決手段】光の波動性を利用して必要なパターンをウェハに転写させるための位相シフトマスク4光学素子の位相欠陥を修正するためのものであって、4を使用してウェハにパターンを転写したときに生じるであろう4のくぼみ欠陥である位相差不足位置並びにその位相差不足量を検出する位相差不足量検出手段と、4を載置し、4のXY方向の位置決めを行うXY方向位置決め手段と、位相差不足量検出手段で検出された4の位相差不足位置に超短パルスレーザ光1を照射することで4の位相差不足量を修正するための光学系と、4からの反射光の強度に基づいて4と1との焦点が合うように調整する合焦調整手段を備えた光学素子の位相欠陥修正装置。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
光学素子本体の所定位置に、超短パルスレーザ光を照射することにより該所定位置の屈折率が増加していることを特徴とする光学素子。
IPC (3件):
G03F1/08
, G02B5/18
, H01L21/027
FI (4件):
G03F1/08 T
, G03F1/08 A
, G02B5/18
, H01L21/30 502P
Fターム (10件):
2H049AA03
, 2H049AA13
, 2H049AA33
, 2H049AA44
, 2H049AA64
, 2H049AA68
, 2H095BB03
, 2H095BD04
, 2H095BD31
, 2H095BD34
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