特許
J-GLOBAL ID:200903025324163350

水素精製装置及び水素除去触媒の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 松田 正道
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-086621
公開番号(公開出願番号):特開2003-277018
出願日: 2002年03月26日
公開日(公表日): 2003年10月02日
要約:
【要約】【課題】 従来の変成機能を有する水素精製装置は、起動停止を繰り返してヒートショックを加えたり、振動が加わる用途には、触媒体の割れが生じ、改質ガス流路の閉塞や装置の圧力損失増大が起っていた。【解決手段】 Al、Si、Ti、Zr、Ceから選択される少なくとも一種の元素を含む酸化物または複合酸化物を、触媒担体にPt、Ru、Rh、Pdから選択される少なくとも一種の貴金属を担持させることによって水素除去触媒を製造する。触媒体1は、球状の構造体であり、触媒体1における最大径と最小径の差が平均直径の20%以下とする。さらに、触媒体1における最大径と最小径の差が直径の2%以上とする。
請求項(抜粋):
少なくとも水素、一酸化炭素および水蒸気を含む改質ガスから一酸化炭素をCO変成反応によって除去する触媒体を備えた水素精製装置であって、前記触媒体は、球状の構造体であり、前記触媒体における最大径と最小径の差が平均直径の20%以下である水素精製装置。
IPC (4件):
C01B 3/48 ,  B01J 23/63 ,  B01J 35/08 ,  H01M 8/06
FI (4件):
C01B 3/48 ,  B01J 35/08 Z ,  H01M 8/06 G ,  B01J 23/56 301 M
Fターム (33件):
4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA01A ,  4G069BA02A ,  4G069BA04A ,  4G069BA05A ,  4G069BB04A ,  4G069BB06A ,  4G069BB06B ,  4G069BC43A ,  4G069BC43B ,  4G069BC51A ,  4G069BC51B ,  4G069BC70A ,  4G069BC71A ,  4G069BC72A ,  4G069BC75A ,  4G069BC75B ,  4G069CC26 ,  4G069DA06 ,  4G069EA04X ,  4G069EA04Y ,  4G069EB18X ,  4G069EB18Y ,  4G069EC01X ,  4G069ED03 ,  4G069FA01 ,  4G069FB14 ,  4G069FB30 ,  4G069FB61 ,  4G140EB34 ,  5H027AA02 ,  5H027BA01
引用特許:
審査官引用 (5件)
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