特許
J-GLOBAL ID:200903025324745660
半導体装置およびその製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
萩野 平 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-277035
公開番号(公開出願番号):特開2001-102531
出願日: 1999年09月29日
公開日(公表日): 2001年04月13日
要約:
【要約】【課題】電源ノイズによる動作性能の低下がなく、小型で信頼性の高い半導体装置を提供する。【解決手段】 本発明の第1の半導体装置では、半導体基板の配線層形成領域が、表面から垂直方向に内部に向かって、第1配線層、第2配線層、コンデンサを順次積層配置し、前記第1および第2の配線層の一方をグランド配線に他の一方を電源配線とし、前記第1および第2配線層をそれぞれ前記コンデンサの第1および第2の電極に接続してなることを特徴とする。
請求項(抜粋):
半導体基板の配線層形成領域が、表面から垂直方向に内部に向かって、第1配線層、第2配線層、コンデンサを順次積層配置し、前記第1および第2の配線層の一方をグランド配線に、他の一方を電源配線とし、前記第1および第2配線層をそれぞれ前記コンデンサの第1および第2の電極に接続してなることを特徴とする半導体装置。
IPC (3件):
H01L 27/04
, H01L 21/822
, H01L 21/82
FI (2件):
H01L 27/04 D
, H01L 21/82 W
Fターム (16件):
5F038AC05
, 5F038AC10
, 5F038AC15
, 5F038AV06
, 5F038CA03
, 5F038CA10
, 5F038CD02
, 5F038CD04
, 5F038CD11
, 5F038EZ20
, 5F064CC09
, 5F064CC23
, 5F064DD01
, 5F064DD34
, 5F064EE45
, 5F064EE52
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