反射防止フィルムの製造方法及び反射防止フィルム

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-073740
公開番号（公開出願番号）：特開2000-266908
出願日： 1999年03月18日
公開日（公表日）： 2000年09月29日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】薄膜で硬度が大きく、基材との接着性に優れ、且つ耐久性のある透明な反射防止フィルム及びその製造方法を提供する。【解決手段】反射防止層のうち1層を、活性エネルギー線反応性基を有しない金属アルコキシド及びその加水分解物から選ばれる一つ、一般式(I)で表される金属アルコキシド化合物、一般式(I)の化合物を除く活性エネルギー線反応性化合物及び有機溶媒を含有する高屈折率層組成物を塗布し、活性エネルギー線を照射して形成された高屈折率層とする。一般式(I) M(R1)m(R2)n(OR3)pMは金属、Oは酸素原子、R1は活性エネルギー線反応性基で、ビニル基、イソプロペニル基、アリル基等を、R2は炭素原子数1〜4の脂肪族炭化水素基を、R3は炭素原子数1〜4の脂肪族炭化水素基又は水素原子を、m+n+p=qで、qは金属の原子価で、q-1≧m≧1、q-1≧p≧1、q-1≧n≧0、であり、m、n及びpは正の整数を表す。

請求項（抜粋）：

透明基材上に多層の反射防止層を逐次積層して反射防止フィルムを作製するに当たり、反射防止層のうち少なくとも1層を、活性エネルギー線反応性基を有しない金属アルコキシド及びその加水分解物から選ばれる少なくとも一つ、下記一般式(I)で表される活性エネルギー線反応性の金属アルコキシド化合物、該一般式(I)の化合物を除く活性エネルギー線反応性化合物及び有機溶媒を含有する高屈折率層組成物を塗布し、活性エネルギー線を照射して形成された高屈折率層と、この上に、低屈折率物質、エポキシ系活性エネルギー線反応性化合物及び有機溶媒を含有する低屈折率層組成物を塗布し低屈折率塗膜とした後に、活性エネルギー線を照射して低屈折率層を形成することを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。一般式(I) M(R1)m(R2)n(OR3)pここで、Mは金属、Oは酸素原子、R1は活性エネルギー線反応性基で、ビニル基、イソプロペニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、グリシジル基を有する基を表し、R2は炭素原子数1〜4の脂肪族炭化水素基を表し、R3は炭素原子数1〜4の脂肪族炭化水素基または水素原子を表し、m+n+p=qで、qは金属の原子価で、q-1≧m≧1、q-1≧p≧1、q-1≧n≧0、であり、m、n及びpは正の整数を表す。

IPC (3件)：

G02B 1/11 , B32B 7/02 103 , C08J 7/00 304

FI (3件)：

G02B 1/10 A , B32B 7/02 103 , C08J 7/00 304

Fターム (60件)：

2K009AA05 , 2K009AA15 , 2K009BB28 , 2K009CC03 , 2K009CC26 , 2K009CC33 , 2K009CC42 , 2K009CC45 , 2K009DD02 , 2K009DD05 , 2K009EE00 , 4F073AA01 , 4F073AA14 , 4F073BA03 , 4F073BB01 , 4F073CA41 , 4F073CA42 , 4F073CA45 , 4F073EA01 , 4F073EA02 , 4F073EA63 , 4F073EA65 , 4F073FA03 , 4F073FA07 , 4F073FA08 , 4F100AA20C , 4F100AH02B , 4F100AH02C , 4F100AJ06A , 4F100AK02C , 4F100AK17C , 4F100AK25 , 4F100AK53C , 4F100BA03 , 4F100BA04 , 4F100BA10A , 4F100BA10C , 4F100BA26 , 4F100CC00D , 4F100EG002 , 4F100EH112 , 4F100EH462 , 4F100EJ082 , 4F100EJ522 , 4F100EJ542 , 4F100GB41 , 4F100JB07B , 4F100JB07C , 4F100JB14B , 4F100JB14C , 4F100JB14D , 4F100JK12D , 4F100JL00 , 4F100JL11 , 4F100JM01C , 4F100JN01A , 4F100JN06B , 4F100JN06C , 4F100JN18B , 4F100JN18C

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