特許
J-GLOBAL ID：200903025336075384
厚膜パターンの形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-313778
公開番号（公開出願番号）：特開平8-171858
出願日： 1994年12月16日
公開日（公表日）： 1996年07月02日
要約：
【要約】【目的】特に形成される厚膜パターン形状が良好な矩形を示す厚膜パターンの形成方法を提供すること。【構成】透明基板1上に感光性組成物2を塗布した後、露光、現像、焼成によりパターン化してなる厚膜パターンの形成方法において、前記感光性組成物を塗布した透明基板の表裏両面上から面対称となるパターンマスク3、4を介して同時に露光することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
透明基板上に感光性組成物を塗布した後、露光、現像、焼成によりパターン化してなる厚膜パターンの形成方法において、前記感光性組成物を塗布した透明基板の表裏両面上にパターンマスクを介して露光することを特徴とする厚膜パターンの形成方法。
IPC (4件)：
H01J 9/24
, H01J 9/02
, H01J 17/16
, H01J 31/12
