特許
J-GLOBAL ID：200903025344762013
マスク基板の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (8件)：
鈴江 武彦
, 河野 哲
, 中村 誠
, 蔵田 昌俊
, 峰 隆司
, 福原 淑弘
, 村松 貞男
, 橋本 良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-261198
公開番号（公開出願番号）：特開2004-341564
出願日： 2004年09月08日
公開日（公表日）： 2004年12月02日
要約：
【課題】 ウェハ露光装置のマスクステージにマスク基板をチャックすることによりマスク基板の平坦度が悪化することに起因する、製品歩留まりの低下の問題を解決するために有効なマスク基板の製造方法を実現すること。【解決手段】 マスク基板の製造方法は、複数のマスク基板の各々について、主面の表面形状を示す第1の情報と、露光装置のマスクステージにチャックする前後の前記主面の平坦度を示す第2の情報とを取得する工程と、前記各マスク基板とその前記第1の情報と前記第2の情報との対応関係を作成する工程と、作成した対応関係の中から、所望の平坦度を示す第2の情報を選択し、この選択した第2の情報と前記対応関係にある第1の情報が示す表面形状と同じ表面形状を有するマスク基板を、前記複数のマスク基板とは別に用意する工程とを有する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
複数のマスク基板の各々について、主面の表面形状を示す第1の情報と、露光装置のマスクステージにチャックする前後の前記主面の平坦度を示す第2の情報とを取得する工程と、
前記各マスク基板とその前記第1の情報と前記第2の情報との対応関係を作成する工程と、
作成した対応関係の中から、所望の平坦度を示す第2の情報を選択し、この選択した第2の情報と前記対応関係にある第1の情報が示す表面形状と同じ表面形状を有するマスク基板を、前記複数のマスク基板とは別に用意する工程と
を有することを特徴とするマスク基板の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F1/08 A
, H01L21/30 502P
2H095BB01
, 2H095BC28
, 2H095BD02
, 2H095BE12
