特許

J-GLOBAL ID：200903025354807961

6H- ジベンゾ[c,e ][1,2] オキサホスホリン- 6-オン及びその誘導体の製造方法

発明者： ハンス-イエルク・クライネル
出願人/特許権者： ヘキスト・アクチェンゲゼルシャフト
代理人 (1件)： 江崎 光史 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-150010
公開番号（公開出願番号）：特開平7-145185
出願日： 1994年06月30日
公開日（公表日）： 1995年06月06日
要約：

【要約】【構成】 6H- ジベンゾ[c,e][1,2]オキサホスホリン-6- オン及びその誘導体の製造方法であって、6-クロル-(6H)-ジベンゾ[c,e][1,2]オキサホスホリン類を、50〜250 °Cで場合によっては溶媒の存在下で、モル比 1:1で水と反応させ、そして塩化水素ガスをその生成速度に合わして随時分離して除去する方法。【効果】 本方法は、塩酸を含む排水及び余分な副生成物を生ずることなく簡単に工業的レベルで行え、そして更に高収率かつ高純度で所望の生成物である 6H-ジベンゾ[c,e][1,2]オキサホスホリン-6- オン及びその誘導体を製造することができる。

請求項（抜粋）：

式 (I)【化1】[ 式中、R1及びR2は同一かまたは異なっており、ハロゲンあるいは 1〜6 個の炭素原子を有するアルキルまたはアルコキシ基であり、そして a及びb は同一かまたは異なっており、0 、1 、2 または3 である]で表される 6H-ジベンゾ[c,e][1,2]オキサホスホリン-6- オン及びその誘導体の製造方法であって、式(II)【化2】[ 式中、R1、R2、a 及びb は上記で定義した通りである]で表される6-クロル-(6H)-ジベンゾ[c,e][1,2]オキサホスホリン類を、50〜250°Cで場合によっては溶媒の存在下で、モル比 1:1で水と反応させ、そして塩化水素ガスをその生成速度に合わせて分離除去する、上記方法。