位相格子マスクならびに光導波路型回折格子素子製造方法および装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長谷川芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-128693
公開番号（公開出願番号）：特開2003-322732
出願日： 2002年04月30日
公開日（公表日）： 2003年11月14日
要約：

【要約】【課題】位相格子マスクの加工精度が悪くても所望の光学特性を有する光導波路型回折格子素子を製造することができる方法等を提供する。【解決手段】光導波路型回折格子素子製造装置は、位相格子マスク210、光源310およびミラー320を備え、また、位相格子マスク210および光ファイバ110それぞれを所定の位置に配置して保持する手段をも備える。位相格子マスク210は、石英ガラスからなる透明平板の一方の面(格子面)211に周期的な凹凸である位相格子が形成されており、他方の面(入射面)212が平面のままとされている。位相格子マスク210の入射面212には、屈折率変化誘起光Aの反射を低減する反射防止膜213が設けられている。反射防止膜213は、格子面211で反射して入射面212に入射する屈折率変化誘起光Aの反射を低減するものである。

請求項（抜粋）：

透明平板の一方の面に位相格子が形成された位相格子マスクであって、前記透明平板の他方の面に反射防止膜が設けられていることを特徴とする位相格子マスク。

IPC (3件)：

G02B 6/10 , G02B 5/18 , G02B 6/16

FI (3件)：

G02B 6/10 C , G02B 5/18 , G02B 6/16

Fターム (8件)：

2H049AA03 , 2H049AA33 , 2H049AA45 , 2H049AA59 , 2H049AA62 , 2H049AA64 , 2H050AC82 , 2H050AC84

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