特許
J-GLOBAL ID：200903025359577450
再利用水を得るための回収水の処理方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
本多 小平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-076927
公開番号（公開出願番号）：特開平6-285464
出願日： 1993年04月02日
公開日（公表日）： 1994年10月11日
要約：
【要約】【目的】 半導体製造産業の設備等の洗浄に使用されている高純度水(純水)の使用後、これを処理して付属する設備に再利用水として用いる。【構成】 高純度水の使用済み排水を回収して、この回収水に含まれるモリブデン酸試薬に反応しない非イオン性のシリカ成分をイオン化させ、次いでイオン状のシリカ成分を逆浸透膜装置で膜濾過して除去する。
請求項（抜粋）：
半導体洗浄等に用いた高純度水の使用済み排水を回収して、この回収水に含まれるモリブデン酸試薬に反応しない非イオン性のシリカ成分をイオン化させ、次いでイオン状のシリカ成分を逆浸透膜装置で膜排除して除去することを特徴とする再利用水を得るための回収水の処理方法。
IPC (5件)：
C02F 1/44
, C02F 1/32
, C02F 1/58 CDW
, C02F 1/78
, H01L 21/304 341
