特許

J-GLOBAL ID：200903025360872139

ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： 岡崎 智 ,  西川 和宏 ,  畠山 潤 ,  梅村 光雄 ,  渡辺 聡 ,  石原 俊信
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 小島 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-263012
公開番号（公開出願番号）：特開平7-092671
出願日： 1993年09月27日
公開日（公表日）： 1995年04月07日
要約：

【要約】【構成】 アルカリ可溶性ノボラック樹脂と1,2-キノンジアジド化合物とを含有するか、又は1,2-キノンジアジド基が導入されたアルカリ可溶性ノボラック樹脂が含有されたポジ型フォトレジスト組成物に、下記式(1)で示され、重量平均分子量が3,000〜50,000で分散度が1.01〜2.0の単分散ポリヒドロキシスチレンポリマーを溶解促進剤として配合したことを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】(ただし、R1及びR2は炭素数1〜6のアルキル基又は水素原子を示す。)【効果】 本発明のポジ型フォトレジスト組成物は、感度が良好で、現像液に対する溶解性に優れ、また、耐熱性に優れるレジスト膜を与えることができるものである。

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性ノボラック樹脂と1,2-キノンジアジド化合物とを含有するか、又は1,2-キノンジアジド基が導入されたアルカリ可溶性ノボラック樹脂が含有されたポジ型フォトレジスト組成物に、下記式(1)で示され、重量平均分子量が3,000〜50,000で分散度が1.01〜2.0の単分散ポリヒドロキシスチレンポリマーを溶解促進剤として配合したことを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】(ただし、R1及びR2は炭素数1〜6のアルキル基又は水素原子を示す。)

IPC (2件)：

G03F 7/022 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特表平2-502312
  
• 特開平2-010349
  
• 特開昭61-252546
  
• 特開昭59-199705
  
• 4-(メトキシメトキシ)スチレン
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-038671   出願人：信越化学工業株式会社