特許

J-GLOBAL ID：200903025361211179

クロマトグラフ用チップ及びその製造法

発明者： 曽我 直弘 ,  中西 和樹 ,  水口 博義
出願人/特許権者： 曽我 直弘 ,  中西 和樹 ,  株式会社 京都モノテック
代理人 (1件)： 喜多 俊文
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-118006
公開番号（公開出願番号）：特開2002-311008
出願日： 2001年04月17日
公開日（公表日）： 2002年10月23日
要約：

【要約】【課題】本発明は、高再現性、低流動抵抗、高分離性能のクロマトグラフ用チップを作製することを目的とする。【解決手段】本発明のチップでは、分析流路3、3’内に形成するシリカ細孔は、流路内で相分離を利用したゾル-ゲル法により、3次元網目状に連続した溶媒に富む溶媒リッチ相と無機物質に富み表面に細孔を有する骨格相とからなるゲルを調整し、続いて湿潤状態のゲルを乾燥・加熱して製造する。

請求項（抜粋）：

板状部材に溝を形成し、該溝に2重細孔構造のシリカゲルを形成してなるクロマトグラフ用チップ。

IPC (4件)：

G01N 30/48 ,  G01N 30/56 ,  G01N 27/447 ,  G01N 35/08

FI (6件)：

G01N 30/48 K ,  G01N 30/48 G ,  G01N 30/48 Y ,  G01N 30/56 A ,  G01N 35/08 A ,  G01N 27/26 311 E

Fターム (3件)：

2G058DA07 ,  2G058GA06 ,  2G058GA12