特許

J-GLOBAL ID：200903025374840388

変位測定方法及び変位測定装置

発明者： 松本 隆宏 ,  千徳 孝一
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-137406
公開番号（公開出願番号）：特開平8-005314
出願日： 1994年06月20日
公開日（公表日）： 1996年01月12日
要約：

【要約】【目的】 ビームスプリッタに漏れ込みがある場合においても、漏れ込みにより生じた非線形誤差が取り除くことができる高精度な変測定方法を提供する。【構成】 わずかに周波数の異なる2成分の光を有する光を分離素子で互いに周波数の異なる第1の周波数の光と第2の周波数の光とに分離する工程と、前記第1の周波数の光からの第1の光束と前記第2の周波数の光からの第2の光束とを少なくとも一方を被測定物を経由させて干渉させ第1の光ビート信号を形成する工程と、前記第1の周波数の光からの第3の光束と前記第2の周波数の光からの第4の光束とを少なくとも一方を前記被測定物を経由させて干渉させ、前記第1の光ビート信号に対し予め決められた位相差を有する第2の光ビート信号を形成する工程と、 前記第1、第2の光ビート信号の位相を比較処理して得られた位相を用いて前記被測定物の変位を測定する工程とを有する。

請求項（抜粋）：

わずかに周波数の異なる2成分の光を有する光を分離素子で互いに周波数の異なる第1の周波数の光と第2の周波数の光とに分離する工程と、前記第1の周波数の光からの第1の光束と前記第2の周波数の光からの第2の光束とを少なくとも一方を被測定物を経由させて干渉させ第1の光ビート信号を形成する工程と、前記第1の周波数の光からの第3の光束と前記第2の周波数の光からの第4の光束とを少なくとも一方を被測定物を経由させて干渉させ、前記第1の光ビート信号に対し予め決められた位相差を有する第2の光ビート信号を形成する工程と、前記第1、第2の光ビート信号の位相を比較処理して得られた位相を用いて前記被測定物の変位を測定する工程とを有することを特徴とする変位測定方法。