マスク欠陥検査装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：京本直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-075914
公開番号（公開出願番号）：特開平6-289597
出願日： 1993年04月01日
公開日（公表日）： 1994年10月18日
要約：

【要約】【目的】半導体集積回路の微細化に伴いコンタクトホールの開口面積の微小の違いを検出する。【構成】マスク欠陥検査装置において、画素単位の比較方式に加え、画素情報を輪郭処理し輪郭内の画素情報を加算した情報を比較する面積比較面積比較方式を備えたものである。マスク1から得られた画素情報を輪郭処理器11及び12により輪郭処理して輪郭内の画素情報を抽出する。次にその画素情報を全て加算した情報を比較する、面積比較器13を備えている。【効果】コンタクトホールの若干の開口面積の違いを欠陥として判定可能となる。

請求項（抜粋）：

マスク面上の情報を画素単位で光電変換により電気信号に変換する検出器と、この検出器により得られた電気信号を記憶するメモリと、このメモリから前記信号を読み出し画素単位で比較する画素単位比較器とを備えたマスク欠陥検出装置において、前記構成に加えて、前記メモリから前記信号を読み出し、輪郭処理して輪郭内の各画素のデータを抽出する輪郭処理器と、前記輪郭処理器で得られた輪郭内各画素のデータ全てを加算したデータを比較する面積比較器とを備えた事を特徴とするマスク欠陥検出装置。

IPC (7件)：

G03F 1/08 , G01B 11/24 , G01N 21/88 , G06F 15/62 405 , G06F 15/70 455 , H01L 21/027 , H01L 21/66

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開昭50-127574
特開昭50-131469
特開昭63-015374

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