特許

J-GLOBAL ID：200903025382308610

基板の吸着装置及び露光装置

発明者： 青山 正昭
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-088543
公開番号（公開出願番号）：特開平10-050810
出願日： 1988年06月21日
公開日（公表日）： 1998年02月20日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 本発明では、ウェハ等の基板を吸着したときのソリ、特に実効的な吸着力が働く部分と、働かない部分との隣接部で生じるソリを極力小さくすることを目的としている。【解決手段】 本発明の基板の吸着装置は、全面に部分的な凸部が複数形成され、基板(W)を載置する載置面を有し、該凸部の周辺の凹部を雰囲気圧よりも減圧することによって、前記基板の裏面を吸着する装置において、前記凸部の分布を、前記載置面と前記基板との間ので雰囲気圧に開放された前記載置面の凹部周辺で密とすることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

全面に部分的な凸部が複数形成され、基板を載置する載置面を有し、該凸部の周辺の凹部を雰囲気圧よりも減圧することによって、前記基板の裏面を吸着する装置において、前記凸部の分布を、前記載置面と前記基板との間ので雰囲気圧に開放された前記載置面の凹部周辺で密とすることを特徴とする基板の吸着装置。

IPC (3件)：

H01L 21/68 ,  B23Q 3/08 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

H01L 21/68 P ,  B23Q 3/08 A ,  H01L 21/30 503 C