特許
J-GLOBAL ID：200903025386395916
記憶装置およびカーボン保護膜の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
福島 康文
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-139501
公開番号（公開出願番号）：特開平7-326033
出願日： 1994年05月29日
公開日（公表日）： 1995年12月12日
要約：
【要約】【目的】磁気ディスク装置などにおける記憶媒体や磁気ヘッドの摺動面に用いるカーボン保護膜に関し、高抵抗・高硬度の両者を満足できる水素含有カーボン保護膜を実現し、しかも安定品質で供給することを目的とする。【構成】情報が記憶される記憶媒体と、前記記憶媒体から情報の記録または再生を行う磁気ヘッドとを備えた記憶装置において、前記記憶媒体又は前記磁気ヘッドの一方の摺動部に、初期層である膜下部の膜中の水素含有率に比較して、表面側の膜上部の膜中の水素含有率が低く形成されてなるカーボン保護膜を有する構成とする。
請求項（抜粋）：
情報が記憶される記憶媒体と、この記憶媒体から情報の記録または再生を行う磁気ヘッドとを備えた記憶装置において、前記記憶媒体又は前記磁気ヘッドの少なくとも一方の摺動部に、初期層である膜下部の膜中の水素含有率に比較して、表面側の膜上部の膜中の水素含有率が低く形成されてなるカーボン保護膜を有することを特徴とする記憶装置。
IPC (5件)：
G11B 5/60
, G11B 5/187
, G11B 5/72
, G11B 5/84
, G11B 21/21 101
