特許

J-GLOBAL ID：200903025406212686

フォトマスク及びその製造方法

発明者： 乾 哲也 ,  木村 和博 ,  平田 進 ,  石井 頼成 ,  太田 賢司
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 原 謙三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-304143
公開番号（公開出願番号）：特開平6-148861
出願日： 1992年11月13日
公開日（公表日）： 1994年05月27日
要約：

【要約】【構成】 光透過部分3...と光非透過部分2...を有する光透過性のマスク基板1からなり、上記光透過部分3...に、レンズ部4...が形成されている。【効果】 上記光透過部分3...にレンズ部4...を形成することによって光の回折を抑えることができるので、精度良くパターンを形成することができ、さらに、光源として紫外線を使用することができるので、従来の露光装置を使用することができ、より安価にパターンを形成することができる。

請求項（抜粋）：

光透過性部分と光非透過性部分を有する光透過性の基板からなるフォトマスクであって、上記光透過性部分が、凸レンズ機能を有していることを特徴とするフォトマスク。