特許

J-GLOBAL ID：200903025408525118

エッチング装置

発明者： 井上 博元 ,  秦 久敏 ,  中木 義幸
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 青山 葆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-109117
公開番号（公開出願番号）：特開2003-303788
出願日： 2002年04月11日
公開日（公表日）： 2003年10月24日
要約：

【要約】【課題】 シリコン基板の直径にわたって均一なエッチング特性が得られる信頼性の高いエッチング装置を提供する。【解決手段】 エッチング装置20は、排気口9を有する反応室10と、前記反応室の内部に設けられ、シリコン基板1を載置するテーブル2と、前記テーブルを回転させる回転駆動部8と、前記反応室の内部で前記シリコン基板上にガスを供給するノズル3を有するガス供給配管とを備える。このノズルの先端部3aは、前記シリコン基板の中心から半径方向に端部までの距離の0.65倍〜0.75倍の間の位置に対向して配置される。

請求項（抜粋）：

排気口を有する反応室と、前記反応室の内部に設けられ、シリコン基板を載置するテーブルと、前記テーブルを回転させる回転駆動部と、前記反応室の内部で前記シリコン基板上に二フッ化キセノンガスを供給するノズルを有するガス供給配管とを備え、前記ノズルの先端部は、前記シリコン基板の中心から半径方向に端部までの距離の0.65倍〜0.75倍の間の位置に対向して配置されることを特徴とするエッチング装置。

IPC (2件)：

H01L 21/302 201 ,  B81C 5/00

FI (2件)：

H01L 21/302 201 A ,  B81C 5/00

Fターム (14件)：

5F004AA01 ,  5F004BA19 ,  5F004BB28 ,  5F004BB32 ,  5F004BC02 ,  5F004BC03 ,  5F004CA02 ,  5F004CA05 ,  5F004DA19 ,  5F004DA25 ,  5F004DB01 ,  5F004EA06 ,  5F004EA07 ,  5F004EB08