特許

J-GLOBAL ID：200903025427805679

排オゾン水の処理方法

発明者： 中塚 豪 ,  山野 邦子
出願人/特許権者： 住友精密工業株式会社
代理人 (1件)： 生形 元重 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-186414
公開番号（公開出願番号）：特開2002-001320
出願日： 2000年06月21日
公開日（公表日）： 2002年01月08日
要約：

【要約】【課題】 液相オゾン処理に高濃度オゾン水を使用したときに、排オゾン水の排水に起因して問題となる、配管系の腐食や環境汚染を防止する。【解決手段】 基板処理部20から排出される排オゾン水41を反応容器31内に導入し、紫外線ランプ34により紫外線を照射してから系外へ排出する。排オゾン水41は高濃度の溶存オゾン、オゾンの分解を抑制する物質、及び基板処理部20での基板処理に伴って発生した有機物を多量に含むが、紫外線は有機物の分解に消費されることなく、溶存オゾンの分解に効率よく使用される。

請求項（抜粋）：

オゾンが溶解したオゾン水による液相オゾン処理に使用した後の排オゾン水に紫外線を照射することを特徴とする排オゾン水の処理方法。

IPC (3件)：

C02F 1/32 ZAB ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

C02F 1/32 ZAB ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/30 572 B

Fターム (11件)：

2H096AA25 ,  2H096AA27 ,  2H096LA02 ,  4D037AA11 ,  4D037AB11 ,  4D037BA18 ,  4D037BB01 ,  4D037BB09 ,  4D037CA14 ,  5F046MA02 ,  5F046MA05

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 半導体等の洗浄水処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-353912   出願人：株式会社カイジョー
• 残留オゾンを含む排水の処理方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-201322   出願人：株式会社ササクラ
• オゾン含有水の処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-046660   出願人：オルガノ株式会社