露光方法及び露光装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小川勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-256289
公開番号（公開出願番号）：特開2000-091195
出願日： 1998年09月10日
公開日（公表日）： 2000年03月31日
要約：

【要約】【課題】レーザプラズマ光源を用いた極端紫外光リソグラフィ技術において、ウェハ上の露光量を高精度に制御する。【解決手段】レーザ光2を標的に照射して極端紫外光領域のパルス光を発生させ、極端紫外光を照明光学系6を介してマスク7に照射し、マスクのパターンを投影光学系を介してウェハ9に転写する。極端紫外光の強度をパルス毎に検出し、その検出結果に基づき、発生する極端紫外光の強度や、レーザ光が標的を単位時間に照射する回数を変化させて、露光量を制御する。【効果】転写パターンの寸法精度が向上する。

請求項（抜粋）：

レーザ光を標的に照射して極端紫外光領域の光を発生する工程と、該極端紫外光を照明光学系を介してマスクに照射する工程と、該マスクのパターンを投影光学系を介して試料に転写する工程とを含む露光方法において、該極端紫外光の強度を検出し、該検出結果に基づき、該標的から発生する該極端紫外光の強度を変化させて、該試料における露光量を制御することを特徴とする露光方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 502 , G03F 7/20 521

FI (4件)：

H01L 21/30 531 E , G03F 7/20 502 , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 531 A

Fターム (12件)：

2H097BB01 , 2H097CA13 , 2H097GB01 , 2H097LA10 , 5F046CA08 , 5F046CB02 , 5F046CB17 , 5F046CB25 , 5F046DA01 , 5F046DA02 , 5F046DB01 , 5F046DC02

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