特許
J-GLOBAL ID:200903025449285148

沃素レーザー装置およびレーザー出力制御方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鈴江 武彦 (外5名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-009965
公開番号(公開出願番号):特開平11-214785
出願日: 1998年01月21日
公開日(公表日): 1999年08月06日
要約:
【要約】【課題】沃素レーザーからのレーザー出力を高速度に制御する【解決手段】この発明の沃素レーザー装置は、レーザー共振器17のレーザー出力の変動量を検出器23で光電変換して得られたレーザー出力の変動量に対応する電圧と目標電圧発生器31から出力された目標電圧との差に基づいて、レーザー共振器に磁場を付与し、その磁場によりレーザー共振器から出力されるレーザー出力の大きさを任意の大きさに設定できる。レーザー共振器に与えられる磁場は、電源33からコイル34に供給される電流値を電流調整器35で変化することで、100Hz程度の応答速度を達成できる。
請求項(抜粋):
外乱によって変化しようとするレーザー出力を測定し、レーザー媒質に磁場を印加することによってゼーマン効果を生じさせ、その結果として表れるレーザー出力の変化を利用して外乱によるレーザー出力変化の効果を打ち消し、レーザー出力を一定に保つことを特徴とする沃素レーザー装置。
IPC (2件):
H01S 3/131 ,  H01S 3/095
FI (2件):
H01S 3/131 ,  H01S 3/095 Z
引用特許:
審査官引用 (1件)

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