特許

J-GLOBAL ID：200903025461767930

レーザ露光描画装置

発明者： 大蔦 正人 ,  木村 景一 ,  羽賀 元久 ,  赤尾 茂 ,  田中 宏明
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 松隈 秀盛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-011859
公開番号（公開出願番号）：特開平7-221000
出願日： 1994年02月03日
公開日（公表日）： 1995年08月18日
要約：

【要約】【目的】 ウエハ上のレジストに照射するレーザ光の光強度を大きくすることができるレーザ露光描画装置を提供することを目的とする。【構成】 レーザ光束12を走査させて被照射体31の表面に露光描画を形成するためのレーザ露光描画装置において、光源として複数のレーザ光源11を用いる。それによって、一度に2箇所以上にレーザ光を照射して露光描画することができる。

請求項（抜粋）：

レーザ光束を走査させて被照射体の表面に露光描画を形成するためのレーザ露光描画装置において、光源として複数のレーザ光源を用いたことを特徴とするレーザ露光描画装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  G03B 27/32 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/20 505 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 529 ,  H01L 21/30 518