特許
J-GLOBAL ID:200903025465695658

シームレスカプセル製造装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 筒井 大和 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-127819
公開番号(公開出願番号):特開平5-200276
出願日: 1991年05月30日
公開日(公表日): 1993年08月10日
要約:
【要約】【目的】 生成されたシームレスカプセルの分離装置上への落下を平面的に万遍なく平均的に行う。【構成】 多重ノズル7から多層液流を噴出させて多層液滴を形成し、前記多層液滴を硬化用液10と接触させてシームレスカプセルSCを製造する装置であって、硬化用液10と共に供給路13から分離タンク14a内の分離用多孔体14b上に落下して来たシームレスカプセルSCを硬化用液10から分離する分離装置14を有し、この分離装置14の分離用多孔体14b上でのシームレスカプセルSCの落下点が複数の円運動または往復運動あるいはそれらの組合せ運動による合成軌跡を画くようにした。
請求項(抜粋):
液滴の少なくとも最外部を硬化用液との接触により硬化させてシームレスカプセルを製造する装置であって、生成されたシームレスカプセルを含む硬化用液を供給する供給手段と、該供給手段から落下した該シームレスカプセルを該硬化用液から分離する分離装置とを備え、前記供給手段から前記分離装置上に落下するシームレスカプセルと硬化用液の落下点が前記分離装置上で複数の円運動または往復運動あるいは円運動と往復運動の組合せの合成軌跡を画くように構成したシームレスカプセル製造装置。

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