特許
J-GLOBAL ID：200903025468172699
エンボス転写方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小西 淳美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-172102
公開番号（公開出願番号）：特開平7-001826
出願日： 1993年06月21日
公開日（公表日）： 1995年01月06日
要約：
【要約】【目的】基材表面にエンボス凹部を形成すると同時にエンボス凹部のみに絵柄を転写により設けた製品を製造する方法を提供する。【構成】転写シートの接着剤層面を被転写基材面に重ねて、高いエンボス凸部を備えた水玉等の規則的な模様のエンボス版により熱加圧することにより、被転写基材面にエンボス版の凸部に対応したエンボス凹部を形成し、同時にエンボス凹部内に絵柄が転写される転写方法である。
請求項（抜粋）：
転写シート基材、剥離層、絵柄インキ層、接着剤層を順に積層した構成からなる転写シートの接着剤層面を被転写基材面に重ねて、エンボス版により熱加圧して被転写基材面にエンボス凹部を形成すると同時にエンボス凹部に絵柄を転写することを特徴とするエンボス転写方法。
IPC (2件)：
B41M 3/12
, B41M 5/00 101
