特許
J-GLOBAL ID：200903025474180040
フオトマスク及び半導体装置の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 喜三郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-271148
公開番号（公開出願番号）：特開平5-107745
出願日： 1991年10月18日
公開日（公表日）： 1993年04月30日
要約：
【要約】【目的】ペリクルを装着するフォトマスクにおいて、フォトマスクの遮光材上に付着したペリクルフレームの接着剤の除去は非常に困難であり、接着剤の除去に時間がかかる上に、接着剤が残る危険性が高く、その後のフォトマスクのスクラブ洗浄において、フォトマスクのパターン及び洗浄ブラシを汚染するという課題を有していた。そこで本発明の目的とするところは、ペリクルの接着剤の除去が容易に行えるフォトマスクを提供することである。【構成】ペリクルフレーム6とフォトマスクが接触する部分について、フォトマスクの遮光材2を除去することにより、ペリクルの接着剤7をガラス基板1の上に付ける構造にしたフォトマスク。
請求項（抜粋）：
ペリクルを装着するフォトマスクにおいて、少なくとも前記ペリクルのフレーム部と前記フォトマスクが接触する部分について、前記フォトマスクの遮光材を除去することを特徴とするフォトマスク。
IPC (2件)：
引用特許：
前のページに戻る
