特許
J-GLOBAL ID：200903025483226681
アジン系混合液晶の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 勝利
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-301780
公開番号（公開出願番号）：特開平11-140446
出願日： 1997年11月04日
公開日（公表日）： 1999年05月25日
要約：
【要約】【課題】 複数のベンズアルデヒドから、対称アジン類の場合と同様の製造方法を用いて、融点が低くかつ温度範囲の広いアジン系液晶混合物を簡便に製造する方法を提供する。【解決手段】【化1】(式中、RはC数1〜10のアルキル、アルコキシル、C数3〜10のアルケニル、アルケニルオキシ、F、Cl等)から選ばれる少なくとも2種の化合物をヒドラジンと反応させることを特徴とするアジン系混合液晶の製造方法。
請求項（抜粋）：
一般式(Ia)【化1】(式中、R1は炭素数1〜10のアルキル基を表す。)及び一般式(Ib)【化2】(式中、R2は炭素数3〜10のアルケニル基を表す。)及び一般式(Ic)【化3】(式中、R3は炭素数1〜10のアルコキシル基または炭素数3〜10のアルケニルオキシ基を表す。)及び一般式(Id)【化4】(式中、R4はフッ素原子、塩素原子、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基あるいはシアノ基を表す。)で表されるベンズアルデヒド類から選ばれる少なくとも2種の化合物をヒドラジンと反応させることを特徴とする、一般式(II)【化5】(式中、R5及びR6はそれぞれ独立的に炭素数1〜10のアルキル基、炭素数3〜10のアルケニル基、炭素数1〜10のアルコキシル基、炭素数3〜10のアルケニルオキシ基フッ素原子、塩素原子、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基あるいはシアノ基を表す。)で表される化合物の少なくとも3種からなるアジン系混合液晶の製造方法。
IPC (5件)：
C09K 19/24
, G02F 1/13 500
, G09F 9/35 303
, C07C249/16
, C07C251/88
C09K 19/24
, G02F 1/13 500
, G09F 9/35 303
, C07C249/16
, C07C251/88
