全反射蛍光X線分析装置

発明者：
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：杉本修司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-131371
公開番号（公開出願番号）：特開平6-317547
出願日： 1993年05月06日
公開日（公表日）： 1994年11月15日
要約：

【要約】【目的】シリコンウェハの全反射蛍光X線分析において、S,Cr,Feの他にNi,Cu,Znの分析も可能にする。【構成】全反射蛍光X線分析の励起X線B2として、Au-Lβ線またはPt-Lβ線を用いる。また、単色化する分光素子1には、人工多層膜格子を用いる。

請求項（抜粋）：

X線管からのX線を分光素子で回折させて単色化した一次X線を試料表面に向って微小な入射角で照射する照射装置と、上記試料表面に対向し上記一次X線を受けた試料からの蛍光X線を検出するX線検出器とを備え、このX線検出器での検出結果に基づいて上記蛍光X線を分析する全反射蛍光X線分析装置において、上記X線管のターゲット材に金を用い、Au-Lβ線を回折する人工多層膜格子で上記分光素子を構成したことを特徴とする全反射蛍光X線分析装置。

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開平3-202760
特開昭50-142185
特開平3-209156

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