特許
J-GLOBAL ID：200903025490456587
超微粒子の成膜方法およびその成膜装置
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-102646
公開番号（公開出願番号）：特開2003-293159
出願日： 2002年04月04日
公開日（公表日）： 2003年10月15日
要約：
【要約】【課題】 膜の成長速度の速く、欠陥部分の少ない均一な膜を形成できる超微粒子の成膜方法およびその装置を提供する。【解決手段】 エアロゾル形成室13内の超微粒子に超音波を印加する、もしくは加熱することで超微粒子の凝集を抑制してエアロゾル化を促進する。さらには搬送管14に内壁を研磨した金属や石英の屈曲部分がなく、内壁に凹凸のない直筒状の硬い材質の管を使用する。エアロゾル化した超微粒子が搬送管14内に付着することを抑制し、基板18まで到達する超微粒子の量を多くし、また基板18に到達し付着する凝集粉の量を減らす。
請求項（抜粋）：
超微粒子をガスと攪拌してエアロゾルを作製し、エアロゾル中の超微粒子を基板上に衝突させることで基板上に膜を成長させる成膜方法であって、エアロゾルを作製するエアロゾル形成室内に超音波を印加しながらエアロゾルを作製することを特徴とする超微粒子の成膜方法。
Fターム (7件)：
4K044AA13
, 4K044AB01
, 4K044BA11
, 4K044BB01
, 4K044BC14
, 4K044CA23
, 4K044CA62
