特許
J-GLOBAL ID：200903025513745425
重ね合わせ検査方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-352859
公開番号（公開出願番号）：特開平10-172902
出願日： 1996年12月13日
公開日（公表日）： 1998年06月26日
要約：
【要約】【課題】 フォトリソグラフィー工程全体のラインタクトを遅らせることなく、露光装置の重ね合わせ精度を正確に追い込む。【解決手段】 第1段階の検査工程では、検査装置に搬入された現像後のプレートに対し、露光装置のプレート側に起因する誤差成分を算出できる計測ポイントを計測して、プレート側の重ね合わせ精度の補正値(プレート成分)を算出し、算出された補正値に基づきプレート側のアライメント補正を行う。第2段階の検査工程では、マスク又はレチクル・レンズ側に起因する誤差成分を算出できる計測ポイントを計測し、マスク又はレチクル・レンズ側の重ね合わせ精度の補正値(マスク又はレチクル・レンズ成分)を算出し、この補正値に基づきマスク又はレチクル・レンズ側のアライメント補正を行う。こうして、重ね合わせ精度を段階的に追い込む。
請求項（抜粋）：
マスク又はレチクルパターンを基板上に投影光学系を用いて投影露光する露光装置により形成されたパターンの重ね合わせ状態を計測する重ね合わせ検査方法において、前記重ね合わせ計測を、前記基板側に起因する誤差成分を算出できる計測ポイントを計測する段階と、前記マスク又はレチクル・投影光学系側に起因する誤差成分を算出できる計測ポイントを計測する段階とに分けて、段階的に行うようにしたことを特徴とする重ね合わせ検査方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 525 E
, G03F 9/00 H
