特許
J-GLOBAL ID：200903025521267532

銀又は銀合金酸性電気めっき浴

発明者：
湯浅 智志

湯浅 智志 について

, 
大島 勝英

大島 勝英 について


出願人/特許権者：
ディップソール株式会社

ディップソール株式会社 について


代理人 (1件)： 中村 稔 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-081834
公開番号（公開出願番号）：特開平11-279787
出願日： 1998年03月27日
公開日（公表日）： 1999年10月12日
要約：
【要約】【課題】 シアン化合物を含有しなくても、浴中の銀又は銀と他の金属イオンとを長期間かつ高温においても安定に溶解させておくことができ、更に長期間にわたり一定のめっき性能を維持できる酸性の銀及び銀合金めっき浴を提供すること。【解決手段】 銀又は銀とSn、Bi、Zn、In、Cu、Sb、Tl、Fe、Ni及びCoからなる群から選ばれる少なくとも一種の金属を含有する合金酸性電気めっき浴であって、2-アミノチオフェノールなどのアミノチオフェノール系化合物を含有し、かつ、シアン化合物を含有しない銀又は銀合金酸性電気めっき浴。
請求項（抜粋）：
銀又は銀とSn、Bi、Zn、In、Cu、Sb、Tl、Fe、Ni及びCoからなる群から選ばれる少なくとも一種の金属を含有する合金酸性電気めっき浴であって、下記の一般式(I)で表されるアミノチオフェノール系化合物を含有し、かつ、シアン化合物を含有しないことを特徴とする銀又は銀合金酸性電気めっき浴。【化1】(式中、R1 、R2 、R4 及びR5 は、HあるいはNH2 基、R3 は、H、NH2 、OH、COOH、Cl、Br、NO2 、CH3 又はOCH3 基であるが、R1 〜R3 の少なくとも1つはNH2 基を有する。)
IPC (3件)：
C25D 3/46 ,  C25D 3/56 ,  C25D 3/64
FI (3件)：
C25D 3/46 ,  C25D 3/56 E ,  C25D 3/64
引用特許：
審査官引用 (4件)
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